市場課題|半導体の放熱設計に時間がかかる

発熱密度が高まり放熱が課題
生成AIやデータセンターの発展に伴い、GPU(画像処理用の半導体)やパワー半導体の発熱密度(単位面積あたりに出る熱の量)は、飛躍的に増加しています。半導体デバイスでは放熱技術が性能を左右するため、熱の逃がし方の設計が欠かせません。放熱の設計が追いつかなければ、半導体の性能を十分に引き出しにくくなります。
試作の繰り返しで開発が長期化
放熱設計では、試作とシミュレーション(計算機上の模擬)を繰り返さなければならないケースが多くあります。その結果、開発期間とコストの増加が課題になっています。開発の初期段階で実測の結果を設計へ戻しにくいと、手戻りの負担が大きくなりやすい状況です。
他にも、材料の内部でばらつく熱の伝わり方、部材どうしの境目で生じる熱の通りにくさ、測定のために試料を壊してしまう破壊検査の負担、といった課題があるといわれています。
- 発熱密度半導体などの単位面積あたりに発生する熱の量である。値が大きいほど熱がこもりやすく、放熱の設計の難度が上がる。






